4年内做出光刻机！
近日，英伟达CEO黄仁勋在接受《All-In Podcast》采访时判断中国到2030年就能做出自己的先进光刻系统。 黄仁勋表示，“他们（中国）会在2030年前做到。2030年就在眼前。中国很擅长大规模生产，这只是时间问题。所以两三年只是转眼之间，根本算不了什么。因此对他们而言，他们其实已经做到了”。 黄仁勋倾向于以乐观态度看待中国的技术发展。具体而言，他曾指出中国的AI产业仅次于美国的顶尖实验室——考虑到中国在AI领域投入的巨额资金，这一判断很可能是正确的。 值得注意的是，采访对话中并未明确定义 “先进光刻系统” 是否指代 EUV 光刻机，这也是本次言论最大的讨论点。ASML 是目前全球唯一可量产 EUV 设备的厂商，也是海外半导体管制的核心抓手。而行业内其他机构观点相对保守，例如蔡司半导体负责人曾公开表示，国产EUV的研发可能还需要约15年。 文章
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